一种叠层结构的氧化铪基电阻式存储器及制备方法和应用

AITNT
正文
推荐专利
一种叠层结构的氧化铪基电阻式存储器及制备方法和应用
申请号:CN202411013756
申请日期:2024-07-26
公开号:CN118742046A
公开日期:2024-10-01
类型:发明专利
摘要
本申请属于存储器件技术领域,尤其涉及一种叠层结构的氧化铪基电阻式存储器及制备方法和应用;本申请提供的电阻式存储器通过改进第一、第二电极之间的阻变薄膜材料,使用叠层结构的掺杂镧的第一氧化铪薄膜/氧化锆薄膜/掺杂镧的第二氧化铪薄膜作为阻变复合薄膜,在阻变复合薄膜中插入了介电常数更低的氧化锆薄膜,使得氧离子更倾向于从阻变层中迁移出来,从而在阻变层内形成更多的氧空位,进而更好地控制导电细丝的形成和断裂,提高电阻式存储器的开关比的性能,从而解决现有技术中基于氧化铪的电阻式存储器的性能不高的技术问题。
技术关键词
电阻式存储器 氧化铪薄膜 叠层结构 氧化锆薄膜 复合薄膜 前驱体薄膜 氧化锆前驱体 衬底 导电 存储器件技术 电极 集成电路 溶液 薄膜材料 电子束 细丝 速度 离子 芯片
系统为您推荐了相关专利信息
1
基于块稀疏行矩阵的金属介质复合目标快速直接求解方法
块对角矩阵 交叉算法 级联 处理器 索引
2
双面嵌铜对称结构双面电路板及其制备方法
双面电路板 图案 聚酰亚胺薄膜 覆铜芯板 蚀刻
3
一种埋入式且多芯片并联的功率模块
功率模块 芯片组件 散热基板 铜排 电路板
4
一种基于可变电阻式存储器的高效超图处理方法及装置
可变电阻式存储器 电阻式随机存取存储器 顶点 阵列 处理单元
5
一种深紫外LED芯片及制备方法
半导体层 欧姆接触层 深紫外LED芯片 焊盘电极 接触电极
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号