一种碳化硅半桥器件及其制造方法

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一种碳化硅半桥器件及其制造方法
申请号:CN202411088025
申请日期:2024-08-09
公开号:CN118899293A
公开日期:2024-11-05
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种碳化硅半桥器件及其制造方法,所述模块包括两块相对设置的上桥铜基板、下桥铜基板,两块铜基板的内侧均设置有一颗碳化硅MOSFET芯片和两个覆铜陶瓷片,覆铜陶瓷片用于电气绝缘、电气连接和电极引出,下桥铜基板上与上桥芯片源极相连的覆铜陶瓷片内部设置有通孔,用于对该覆铜陶瓷片的正反两面进行电气连接,从而形成一个半桥电路拓扑。本发明焊接工艺简洁,碳化硅MOSFET芯片的正面焊接采用“凸点+回流焊”方案,便于焊接和组装。
技术关键词
覆铜陶瓷 碳化硅 电气 芯片 栅极 凸点 回流焊工艺 陶瓷片 绝缘材料 杂散电感 高频开关 焊接金属 电极端子 铜基板 焊接工艺 散热装置 陶瓷板 电路
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