用于激光切割的反射式光场调控系统、激光头和激光器

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用于激光切割的反射式光场调控系统、激光头和激光器
申请号:CN202411091661
申请日期:2024-08-09
公开号:CN118720457B
公开日期:2025-12-16
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种用于激光切割的反射式光场调控系统、激光头和激光器,包括:激光光源,用于发出高斯光束;第一离轴抛物面反射镜,第一离轴抛物面反射镜设置在高斯光束的发射路径上,第一离轴抛物面反射镜用于对高斯光束进行反射和准直;第二离轴抛物面反射镜,第二离轴抛物面反射镜设置在高斯光束的反射路径上,且第二离轴抛物面反射镜的镜表面设置有光场调控相位单元,第二离轴抛物面反射镜用于对反射的高斯光束进行反射和聚焦,同时对光斑能量重新分配,以实现激光切割,从而能够实现保证切割速度与质量。
技术关键词
离轴抛物面反射镜 光场调控系统 激光头 光束 激光光源 激光器 GS算法 曲面 光斑 尺寸 关系 坐标 镜面 速度
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