一种辐射源位置的直接定位方法

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一种辐射源位置的直接定位方法
申请号:CN202411129451
申请日期:2024-08-16
公开号:CN119087348B
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种辐射源位置的直接定位方法,属于辐射源定位技术领域,解决了现有技术中辐射源定位精度低的问题。所述直接定位方法包括:根据观测站测量位置模型和观测站外校正源测量信号模型,基于贝叶斯定理构建校正代价函数;根据各观测站的外校正源测量信号和校正代价函数对各观测站的测量位置进行校正;在各观测站的校正位置处对观测站辐射源测量信号模型进行泰勒级数一阶展开,获取展开后的观测站辐射源测量信号模型;根据各观测站的辐射源测量信号、校正位置辐射源信号模型和校正辐射源误差模型构建辐射源位置的定位代价函数;根据辐射源位置的定位代价函数确定辐射源的定位位置。实现了对辐射源位置的高精度定位。
技术关键词
协方差矩阵 误差模型 校正 定位方法 后验概率 信号 加权最小二乘 方程 辐射源定位技术 特征值 块对角矩阵 采样点 元素 因子 损耗 尺寸
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