一种声传感器芯片加工及封装方法

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一种声传感器芯片加工及封装方法
申请号:CN202411380496
申请日期:2024-09-30
公开号:CN119409137A
公开日期:2025-02-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种声传感器芯片加工及封装方法,首先对第一SOI晶圆的器件层进行第一次图形化浅腔刻蚀,形成两个浅腔和一个锚点;在两个浅腔内刻蚀形成止挡结构;在器件层的表面通过热氧工艺生成第二氧化层;将第一SOI晶圆的器件层图形化刻蚀到埋氧层,将止挡结构和下电极与器件层中的其它硅进行物理隔离;依次图形化刻蚀下电极上的器件层到埋氧层,再刻蚀埋氧层到衬底层,最后再将衬底层刻蚀一定的深度,最终得到阻尼孔;将两片SOI晶圆的器件层进行面对面的硅硅键合;去除第二SOI晶圆衬底层上的第一氧化层、衬底层以及埋氧层。本发明加工方法提高抗振动干扰MEMS全差分麦克风的灵敏度、信噪比和带宽等指标。
技术关键词
SOI晶圆 敏感结构 衬底层 传感器芯片 氧化层 声传感器 封装方法 金属壳体 止挡结构 湿法工艺 差分麦克风 集成电路 PCB板表面 电极 止档结构 刻蚀深度 锚点 阻尼
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