摘要
本发明公开了一种声传感器芯片加工及封装方法,首先对第一SOI晶圆的器件层进行第一次图形化浅腔刻蚀,形成两个浅腔和一个锚点;在两个浅腔内刻蚀形成止挡结构;在器件层的表面通过热氧工艺生成第二氧化层;将第一SOI晶圆的器件层图形化刻蚀到埋氧层,将止挡结构和下电极与器件层中的其它硅进行物理隔离;依次图形化刻蚀下电极上的器件层到埋氧层,再刻蚀埋氧层到衬底层,最后再将衬底层刻蚀一定的深度,最终得到阻尼孔;将两片SOI晶圆的器件层进行面对面的硅硅键合;去除第二SOI晶圆衬底层上的第一氧化层、衬底层以及埋氧层。本发明加工方法提高抗振动干扰MEMS全差分麦克风的灵敏度、信噪比和带宽等指标。
技术关键词
SOI晶圆
敏感结构
衬底层
传感器芯片
氧化层
声传感器
封装方法
金属壳体
止挡结构
湿法工艺
差分麦克风
集成电路
PCB板表面
电极
止档结构
刻蚀深度
锚点
阻尼
系统为您推荐了相关专利信息
定位优化方法
隔离氧化层
界面态密度
测试结构
陷阱电荷
氢气监测系统
信号处理单元
钯合金薄膜
采集单元
氢气传感器