一种芯片版图图形的修正方法、装置、设备、介质及产品

本申请公开了一种芯片版图图形的修正方法、装置、设备、介质及产品，应用于光刻技术领域。该方法先基于第一初始值确定对应的目标刻蚀偏差序列；再基于第二初始值，从目标刻蚀偏差序列中确定对应的目标刻蚀偏差；最后基于目标刻蚀偏差对图形进行修正。因为尺寸和间距是一条边两种独立的属性，且在查表过程中需要同时满足两个参数要求。因此，本实施例设定一个提前退出机制，即两个参数分别进行查找，在找到第一初始值后，先确定出对应的目标刻蚀偏差序列，进而不再遍历其他的刻蚀偏差序列，仅需要在目标刻蚀偏差序列进行查找即可。通过上述方式，极大减少了对选择性偏差算法表的查找时间，进而实现了对修正过程的提速，提高了芯片生产效率。