摘要
本发明提供一种LED芯片制备方法及LED芯片,通过对N型GaN层表面进行处理,具体的,将黄光工艺后暴露出N型GaN层的晶圆进行ICP刻蚀,ICP刻蚀分为两次刻蚀,首先通入氩气进行快速刻蚀,然后通入SiCl4气体再进行刻蚀;将刻蚀后的晶圆放入盐酸溶液中浸泡,后进行清洗;将清洗后的晶圆进行金属蒸镀,沉积N电极金属层,其中,通过氩气和SiCl4气体处理N型GaN层表面,可以显著降低N型GaN层和N电极金属层的接触电阻,另外,该工艺不仅可以降低LED芯片的电压,还可以提高LED芯片的亮度。
技术关键词
LED芯片
GaN外延层
电极金属层
ITO电流扩展层
P型GaN层
电流阻挡层
多量子阱层
盐酸
气体
功率
溶液
衬底
气压
亮度
电阻
电压
系统为您推荐了相关专利信息
摇头灯
冷却液调节阀
循环泵
水冷系统
光电转换效率
磁控溅射沉积
光刻胶层
刻蚀液浓度
功率
透明导电层
隔离带结构
LED封装器件
LED芯片
透光率
玻璃微珠