一种背面套刻精度验证及套刻误差补偿方法及系统

本发明涉及光刻机领域，公开了一种背面套刻精度验证及套刻误差补偿方法，包括以下步骤：在透明片正面制作第一套刻标记和在第一套刻标记周围的第一刻度；采用背面显微镜抓图保存掩模板对准标记，所述掩模板对准标记由第二套刻标记和在第二套刻标记周围的第二刻度；用背面显微镜对准透明片正面的第一刻度和第二刻度，对准后曝光显影出新制作标记；通过光学显微镜读取新制作标记上的第一刻度和第二刻度，通过第一刻度和第二刻度的对齐程度得到套刻精度。