一种用于制造半导体器件的掩膜版布局方法、掩膜版

一种用于制造半导体器件的掩膜版布局方法、掩膜版，该方法包括：初始化散射条粒子群中每个散射条粒子的速度和位置；根据每个散射条粒子的位置与周围主图形的位置，得到每个散射条粒子的适应度，并根据所有散射条粒子的适应度得到整个散射条粒子群的全局最优位置；更新每个散射条粒子的速度和位置；根据更新后的位置得到更新后的适应度；根据每个散射条粒子的个体最优位置的适应度对散射条粒子群中的散射条粒子进行筛选；若当前满足结束条件则输出布局结果，若不满足结束条件则继续更新散射条粒子的速度和位置。本发明根据粒子群优化算法和自然选择机制完成掩膜版的布局，具体良好的通用性、准确性和延展性。