基于对称保护的连续域束缚态超表面微腔结构及设计方法

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正文
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基于对称保护的连续域束缚态超表面微腔结构及设计方法
申请号:CN202411633644
申请日期:2024-11-15
公开号:CN119200049A
公开日期:2024-12-27
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于对称保护的连续域束缚态超表面微腔结构及设计方法。该结构包括沿z轴方向依次叠加设置的基底层、低折射率材料层、超表面阵列结构;超表面阵列结构由分别沿x、y轴方向周期排列的多个方形块结构,方形块结构上具有的圆孔的圆心相对于方形块结构的中心有偏移;各方形块结构及其上设置的圆孔的位置、大小、形状相同;设有位置偏移的圆孔的超表面阵列结构用于在沿y轴方向偏振的平面波正入射时,激发沿z轴方向的偶极矩,形成准连续域中的束缚态,并利用所述准连续域中的束缚态形成高Q值的谐振腔。它通过打破结构内在的旋转对称性,使理想的BIC转化为具有极高Q值但寿命有限的准BIC态,获得高性能的光学束缚,提高各类低维增益材料器件发射性能,促进集成化和小型化光学器件的发展。
技术关键词
超表面阵列结构 微腔 低折射率材料层 超表面结构 方形 基底层 光致发光 小型化光学 平面波 谐振腔 传感芯片 周期 波长 圆心 氟化钙 二氧化钛 二氧化硅 介质
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