一种氮化镓和砷化镓三维异质集成射频芯片及其制备方法

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一种氮化镓和砷化镓三维异质集成射频芯片及其制备方法
申请号:CN202411650425
申请日期:2024-11-19
公开号:CN119789509B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种氮化镓和砷化镓三维异质集成射频芯片及其制备方法,所述结构自下而上包括背金属、衬底、氮化镓器件外延层、键合介质层、砷化镓器件外延层、氮化镓器件电极源极、氮化镓器件电极栅极、氮化镓器件电极漏极、砷化镓器件电极源极、砷化镓器件电极栅极、砷化镓器件电极漏极、氮化镓背通孔、砷化镓背通孔、正面通孔、氮化镓外表面电极源极、氮化镓外表面电极漏极,砷化镓器件外延层上表面的电极根据需要进行互联,形成一定功能的集成电路。本发明可以使氮化镓和砷化镓射频器件的电极具有极小的空间间距,减少了高频下长距离传输信号的损耗和寄生参数的影响,并且减小了芯片面积与芯片体积,减少了封装成本。
技术关键词
砷化镓器件 氮化镓器件 集成射频芯片 外延 砷化镓晶圆 电极 异质 金属材料 氮化镓晶圆 衬底 氮化铝 通孔 栅极 势垒层 射频器件 氮化物缓冲层 正面 介质
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