一种磷化铟芯片抛光用腐蚀液、磷化铟芯片抛光方法及磷化铟芯片

本发明属于磷化铟芯片处理技术领域，公开了一种磷化铟芯片抛光用腐蚀液、磷化铟芯片抛光方法及磷化铟芯片，该磷化铟芯片抛光用腐蚀液，包括盐酸和硝酸，所述腐蚀液中盐酸的质量浓度为0.16‑0.38％，硝酸的质量浓度为0.16‑0.35％。本发明公开了一种磷化铟芯片抛光用腐蚀液，采用特定浓度的盐酸和硝酸复配，能够有效控制腐蚀过程中对磷化铟芯片的腐蚀情况，能够有效控制磷化铟芯片的表面粗糙度，提高了产品的良品率。