一种半导体抛光的反馈控制方法及系统

本申请提供了一种半导体抛光的反馈控制方法及系统，涉及半导体抛光加工技术领域，该方法包括：构建智能反馈器，包括点阵演化单元、反馈决策单元与模糊分析单元；结合点阵演化单元确定目标校验点阵；基于协同控制方案进行抛光控制，同步执行基于目标校验点阵的传感监测，确定监测反馈数据；对监测反馈数据进行指标矩阵组的提取与模糊反馈决策，确定反馈控制策略；接收主观反馈指令，结合反馈控制策略执行反馈抛光调控。通过本申请可以解决由于监测数据处理量较大，无法实现针对性监测，导致监测反馈的时效性和准确性较差，造成半导体抛光质量较差的技术问题，可以提高半导体抛光监测的针对性和目的性，达到提高半导体抛光质量的技术效果。