一种高效的GPP芯片玻璃钝化层制备工艺

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一种高效的GPP芯片玻璃钝化层制备工艺
申请号:CN202411660820
申请日期:2024-11-20
公开号:CN119673784B
公开日期:2025-07-22
类型:发明专利
摘要
本发明涉及GPP生产技术领域,尤其是涉及一种高效的GPP芯片玻璃钝化层制备工艺。包括制作双沟槽基底,提供PN结的硅片作为基底,所述硅片包括双沟槽以及位于双沟槽四周的金属膜台面;制备玻璃浆料和印刷膜,所述印刷膜包括印刷图案的通透部分,所述通透部分包括与金属膜台面四周对应的区域;对版并涂覆玻璃浆料,将印刷膜与硅片进行对版,在印刷膜上倒入玻璃浆料,用刮刀沿台面的对角线方向将玻璃浆料均匀刮入硅片的沟槽内,得到涂覆有玻璃浆料的硅片;烘干固化与烧结,将涂覆有玻璃浆料的硅片放入高温链式炉内进行烘干,烘干后进行升温烧结。本发明利用低成本的刮涂法,解决了PN结尖角保护以及切割不损坏钝化玻璃的问题。
技术关键词
玻璃浆料 光刻胶 双沟槽 硅片 印刷膜 显影液 四甲基氢氧化铵 印刷图案 芯片 台面 涂覆 丝网 基底 定影液 剥离液 感光胶 胶片 光刻机
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