一种基于粗糙不平整基底的物质沉积方法

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一种基于粗糙不平整基底的物质沉积方法
申请号:CN202411673034
申请日期:2024-11-21
公开号:CN119604163A
公开日期:2025-03-11
类型:发明专利
摘要
本公开提出一种基于粗糙不平整基底的物质沉积方法,包括:获取基底的平整度;在基底上涂布溶液,并根据基底的平整度控制涂布位置,以使基底上形成处于第一厚度范围的溶液湿膜;获取湿膜不同位置的厚度;对湿膜吹气,并根据湿膜对应位置的厚度控制吹气的位置、角度和流速,以使湿膜形成处于第二厚度范围的干湿膜;对干湿膜进行结晶处理,以使干湿膜形成处于第三厚度范围的干膜。在本公开的一种基于粗糙不平整基底的物质沉积方法中,利用涂布工艺的闭环控制以及吹气工艺的闭环控制,实现了溶液的均匀沉积,从而使得结晶后的干膜能够形成厚度均一且材料基本元素分布均匀的薄膜,进而有效保证了光学吸收和器件性能。
技术关键词
沉积方法 三轴运动机构 基底 间距 角度调节机构 基准面 全光谱 干涉仪 偏差 闭环控制 吹气工艺 溶液 激光器 比例模型 涂布工艺 薄膜 结晶 涂布头
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