使用传导和辐射的衬底冷却设备

提出了一种用于冷却衬底的设备。该设备包括：室壳体；设置在第一壁中的第一端口，第一端口配置成可与第一环境密封隔离；设置在第二壁中的第二端口，第二端口配置成可与第二环境密封隔离；设置在室壳体的顶部和底部之间的第一支撑件；设置在第一支撑件和室壳体的底部之间的第二支撑件；设置在顶壁正下方的第一主体；以及设置在底壁正上方的第二主体，其中第一主体的发射率和第二主体的发射率等于或大于预定阈值。