一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法

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一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法
申请号:CN202411731517
申请日期:2024-11-29
公开号:CN119595215A
公开日期:2025-03-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于半导体设备真空系统的简易检漏方法,半导体设备内设置有控制系统,真空系统包括工艺气体管路、真空腔体、抽气管路、真空计、阻抽阀、真空泵、MFC、源瓶、手阀、隔膜阀、ALD阀、N2管路、O3管路,所述控制系统嵌入漏率测试的逻辑控制程序及算法,并对真空系统的各元件进行控制和数据采集,漏率测试的结果通过漏率测试界面展示。本发明通过控制系统直接读取设备真空计的数据,降低漏率计算的误差。
技术关键词
真空系统 半导体设备 检漏方法 控制系统 真空计 气体管路 真空度 隔膜阀 真空腔体 手阀 数据 真空泵 源瓶 开关阀 读取设备 界面 三维模型 待机 容积
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