光掩模中间隙检测方法及光掩模检测设备

本申请提供一种光掩模中间隙检测方法及光掩模检测设备，包括：根据光掩模曝光文件获取设计图形中芯片之间的关键特征；若关键特征满足预设参考值条件，则检测出正常间隙；确定正常间隙对应的间隙区域，并生成间隙区域的坐标文件；以便坐标文件被导入检验机台后，机台检测除坐标文件对应区域以外的其他区域。通过提供了一种利用数据处理方法产生光掩模GAP区域坐标的技术。该方法针对由数据处理引起的各种GAP进行处理，显著减少了光掩模的检验时间，提升了光掩模制造的良率。通过自动识别和处理GAP区域，本发明有效地优化了光掩模制造流程，保证了生产效率和质量的提升。