一种GaN HEMT单粒子烧毁效应评价方法

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一种GaN HEMT单粒子烧毁效应评价方法
申请号:CN202411822165
申请日期:2024-12-11
公开号:CN119644087A
公开日期:2025-03-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种GaN HEMT单粒子烧毁效应评价方法,适应各类GaN HEMT器件特点,可以对宇航用GaN HEMT器件的单粒子烧毁效应做出评价,服务于航天型号,解决宇航倒GaN HEMT器件单粒子评估方法缺失问题。
技术关键词
效应评价方法 单粒子烧毁效应 离子辐照 重离子加速器 GaNHEMT器件 电压 器件单粒子 航天 栅极 曲线 芯片 电流 关系
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