一种测试芯片及其线路修改方法

AITNT
正文
推荐专利
一种测试芯片及其线路修改方法
申请号:CN202411894251
申请日期:2024-12-20
公开号:CN119725133B
公开日期:2025-08-08
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种测试芯片及其线路修改方法,涉及半导体技术领域。该线路修改方法包括:提供待测芯片,待测芯片包括衬底、位于衬底一侧的多层导电层、以及位于各导电层背离衬底一侧的顶层介质层;各导电层中的待测导电层包括待测线路;形成贯穿待测层背离衬底一侧的各膜层的线路引出孔,以露出待测线路,线路引出孔的第一线路引出孔中,靠近待测线路的第一线路引出孔的尺寸小于远离待测线路的第一线路引出孔的尺寸;在线路引出孔周围以及线路引出孔内沉积导电材料,以形成测试焊盘、以及连接测试焊盘与待测线路的引出线。本发明的技术方案通过形成上宽下窄的第一线路引出孔,使得导电材料能够沉积于第一线路引出孔侧壁,提高线路修改的准确性。
技术关键词
待测线路 修改方法 导电层 待测芯片 衬底 测试焊盘 尺寸 蚀刻 介质 导电结构 离子束 参数 绝缘
系统为您推荐了相关专利信息
1
一种提升磷化铟晶圆开管扩散均匀性的区域性掩膜方法
掩膜方法 保护膜 磷化铟 光刻胶图案化 干法刻蚀工艺
2
半导体装置及半导体装置的制造方法
半导体装置 金属垫 半导体衬底 芯片 存储单元阵列
3
一种DBR光栅模组及其制作方法与生物传感系统
光栅 生物传感系统 刻蚀深度 激光器模组 硬掩膜层
4
一种垂直腔面发射激光器、制备方法及激光器发光模块
圆台结构 激光器 绝缘结构 电极 发光模块
5
晶圆制备方法及晶圆
图形化光刻胶层 隔离结构 衬底 通孔 晶圆
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号