一种基于微纳可形变结构的椭偏仪

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一种基于微纳可形变结构的椭偏仪
申请号:CN202411910425
申请日期:2024-12-24
公开号:CN119779997A
公开日期:2025-04-08
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种基于微纳可形变结构的椭偏仪,基于微纳可形变结构的超表面不仅可以将椭偏仪缩小至亚像素级别,且当微纳可形变结构在空间中大量集成,可以以成像的形式获得整个被测材料的被测面的参数,突破传统椭偏仪仅能单点测量的局限性;也就是说,本发明可以以成像的形式进行二维测量、突破传统椭偏仪单点测量的缺陷,极大的缩小了椭偏仪的片上尺寸,将其体积缩小至单像素级别;本发明可以与不同的光学透镜组结合,以成像的形式探测整个薄膜的光学性质与均匀性,突破了传统微型椭偏仪单点探测的弊端;本发明基于总变分的全斯托克斯偏振向量重建模型,通过对迭代内数据施加约束,使得运算结果更加稳定且易收敛。
技术关键词
光电传感器 线偏振 穆勒矩阵 动态控制电路 成像透镜组 有机半导体光电 后处理模块 偏振检测技术 强度 元素 椭偏仪 基底层 电压 芯片 拉格朗日法 椭圆偏振光 光学透镜组
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