摘要
本发明提供一种基于微纳可形变结构的椭偏仪,基于微纳可形变结构的超表面不仅可以将椭偏仪缩小至亚像素级别,且当微纳可形变结构在空间中大量集成,可以以成像的形式获得整个被测材料的被测面的参数,突破传统椭偏仪仅能单点测量的局限性;也就是说,本发明可以以成像的形式进行二维测量、突破传统椭偏仪单点测量的缺陷,极大的缩小了椭偏仪的片上尺寸,将其体积缩小至单像素级别;本发明可以与不同的光学透镜组结合,以成像的形式探测整个薄膜的光学性质与均匀性,突破了传统微型椭偏仪单点探测的弊端;本发明基于总变分的全斯托克斯偏振向量重建模型,通过对迭代内数据施加约束,使得运算结果更加稳定且易收敛。
技术关键词
光电传感器
线偏振
穆勒矩阵
动态控制电路
成像透镜组
有机半导体光电
后处理模块
偏振检测技术
强度
元素
椭偏仪
基底层
电压
芯片
拉格朗日法
椭圆偏振光
光学透镜组
系统为您推荐了相关专利信息
移动机器人
光信号
环境光干扰
数字锁相环
带通滤波器
蛋白定量检测方法
定量检测系统
衍射光学元件调制
流体控制模块
微流控通道
定位锁紧装置
锁紧总成
焊接夹具
焊接工作台
校正