一种减反射膜、超晶格半导体芯片和GaSb芯片和焦平面探测器

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一种减反射膜、超晶格半导体芯片和GaSb芯片和焦平面探测器
申请号:CN202411936240
申请日期:2024-12-26
公开号:CN119689617A
公开日期:2025-03-25
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体芯片光学薄膜领域,具体是一种减反射膜、超晶格半导体芯片和GaSb芯片和焦平面探测器。本发明提供的减反射膜具有超低红外反射率,非常适用应用于半导体芯片的制造,特别是探测器用半导体芯片的制造。本发明所述的GaSb芯片以超晶格半导体GaSb材料为衬底,通过在所述GaSb衬底上设置本发明所述的八层减反射膜,所得到的GaSb芯片具有超低红外长波波段反射率,特别是在红外长波波段下,具体是在7.2 μm~9.5 μm的红外长波波段下,平均反射率低于0.41%。
技术关键词
减反射膜 半导体芯片 半导体衬底 光敏元芯片 焦平面探测器 反射率 光学薄膜
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