摘要
本发明涉及一种高亮度倒装LED芯片及其制备方法。该芯片包括透明衬底层、N型层、多量子阱层、P型层、透明导电层、全角度反射结构、DBR和电极。其中,全角度反射结构位于透明导电层上方,呈弧形或圆顶形貌,其与DBR相结合,实现全角度光反射,显著提高光提取效率。此外,在P型层上方设置电流阻挡层,有效引导电流集中流经发光区域,减少电流扩散,提升电流注入效率。本发明采用PECVD沉积、光刻工艺、干法蚀刻等工艺,形成高效的全角度反射结构,显著提高了光提取效率与发光均匀性,具有广泛的应用前景。
技术关键词
全角度
透明导电层
布拉格反射镜
电流阻挡层
多量子阱层
干法蚀刻工艺
透明衬底层
光提取效率
光刻工艺
折射率层
LED芯片
SiO2薄膜
光反射结构
后续电极
圆顶
系统为您推荐了相关专利信息
多量子阱层
短波蓝光
LED芯片
白光LED光源
多波段
深紫外LED芯片
p型AlGaN层
电子阻挡层
倒装结构
LED外延
发光二极管芯片
布拉格反射层
电流阻挡层
金属反射层
银镜