一种高亮度倒装LED芯片及其制备方法

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一种高亮度倒装LED芯片及其制备方法
申请号:CN202411945504
申请日期:2024-12-27
公开号:CN119744059A
公开日期:2025-04-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种高亮度倒装LED芯片及其制备方法。该芯片包括透明衬底层、N型层、多量子阱层、P型层、透明导电层、全角度反射结构、DBR和电极。其中,全角度反射结构位于透明导电层上方,呈弧形或圆顶形貌,其与DBR相结合,实现全角度光反射,显著提高光提取效率。此外,在P型层上方设置电流阻挡层,有效引导电流集中流经发光区域,减少电流扩散,提升电流注入效率。本发明采用PECVD沉积、光刻工艺、干法蚀刻等工艺,形成高效的全角度反射结构,显著提高了光提取效率与发光均匀性,具有广泛的应用前景。
技术关键词
全角度 透明导电层 布拉格反射镜 电流阻挡层 多量子阱层 干法蚀刻工艺 透明衬底层 光提取效率 光刻工艺 折射率层 LED芯片 SiO2薄膜 光反射结构 后续电极 圆顶
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