一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法

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一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法
申请号:CN202411967039
申请日期:2024-12-30
公开号:CN119876918B
公开日期:2025-12-16
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法,属于涂层制备技术领域。本发明首先建立无涂层和预计涂层厚度的三维化学气相沉积模型,分析因涂层的生长而导致的基板表面沉积速率的变化,然后通过流体力学仿真调控沉积条件,实现沉积过程的动态补偿调控,使得超厚涂层在生长过程中的表面沉积速率维持相对稳定,可有效解决现有流体力学仿真无法适配超厚涂层生长后期腔室几何分布与初始条件偏差较大的问题,可适应多种化学气相沉积方法制备不同的超厚涂层的调控过程,尤其适配多基板的批量生产的情况,极大节省实验试错时间和经济成本,提高超厚涂层的生长设计效率,具有重要的应用前景。
技术关键词
涂层 流体力学仿真 三维模型 气相沉积装备 速率 气相沉积方法 动态 耦合算法 网格 基板 壁面温度 软件 参数 偏差 终点 腔室 物理 压强 线性
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