摘要
本发明公开了一种多电子束光刻装备中的MEMS基电子光学系统结构及制造方法,其中MEMS器件中电子光学系统结构为核心部件,其能够将入射在孔中电子束进行分束、收束、聚焦,并实现调节对中及像散的功能。通过控制芯片,利用传输线,传输线再与不同金属线所对应凸点连接,并将电压加至MEMS微孔阵列旁边的金属膜层上;通过调整金属膜中电压以控制电场强度,实现对入射电子束的收束、聚焦等功能,最终能将束斑投影至写场中的任一位置,有利于电子光学系统的小型化。
技术关键词
光刻装备
介质
表面平坦化
控制芯片
偏转器
金属线
侧壁粗糙度
衬底
图案化金属薄膜
刻蚀结构
电子光学结构
电子束流控制
匀胶
传输线
填充物
金属孔结构
电压
硅通孔侧壁
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