一种多电子束光刻装备电子光学系统结构及其制造方法

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一种多电子束光刻装备电子光学系统结构及其制造方法
申请号:CN202411973462
申请日期:2024-12-30
公开号:CN120065638A
公开日期:2025-05-30
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种多电子束光刻装备中的MEMS基电子光学系统结构及制造方法,其中MEMS器件中电子光学系统结构为核心部件,其能够将入射在孔中电子束进行分束、收束、聚焦,并实现调节对中及像散的功能。通过控制芯片,利用传输线,传输线再与不同金属线所对应凸点连接,并将电压加至MEMS微孔阵列旁边的金属膜层上;通过调整金属膜中电压以控制电场强度,实现对入射电子束的收束、聚焦等功能,最终能将束斑投影至写场中的任一位置,有利于电子光学系统的小型化。
技术关键词
光刻装备 介质 表面平坦化 控制芯片 偏转器 金属线 侧壁粗糙度 衬底 图案化金属薄膜 刻蚀结构 电子光学结构 电子束流控制 匀胶 传输线 填充物 金属孔结构 电压 硅通孔侧壁
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