一种结构光照明的光刻对准方法

本发明属于半导体加工技术领域，公开了一种结构光照明的光刻对准方法，包括步骤：将硅片与表面刻蚀有对准标记的掩模重叠放置，利用结构光对对准标记进行准直照明，形成二次调制的莫尔条纹；利用图像采集单元对二次调制的莫尔条纹进行图像采集；采集的图像输入相位解析模型，计算出每组莫尔条纹的对准偏移信息；通过解调算法模型对对准偏移信息进行处理，计算获得最终的对准偏移量；利用对准偏移量完成掩膜和硅片的对准。本发明运用结构光照明来提升光刻莫尔对准技术的精度和灵敏度，实现在亚纳米级光刻对准。