一种新型离子注入机及其控制方法

本发明涉及离子注入领域，特别是涉及一种新型离子注入机及其控制方法，包括离子发射源及机械臂；所述离子发射源用于发射离子注入束；所述机械臂包括静电夹及第一电荷检测器；所述静电夹与所述第一电荷检测器设置在所述机械臂朝向所述离子发射源的表面；所述静电夹用于固定待处理晶片；所述第一电荷检测器及所述待处理晶片随所述机械臂的运动穿过所述离子注入束的照射区域，且所述第一电荷检测器不被所述待处理晶片及所述静电夹遮挡。本发明在新型离子注入机的机械臂上设置了第一电荷检测器，而第一电荷检测器会随着待处理晶片一同穿过离子注入束，实现了在离子注入过程中，实时监测待处理晶片上的电荷积聚情况，提升离子注入的工艺质量。