一种轮廓点处理方法、设备、介质及产品

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一种轮廓点处理方法、设备、介质及产品
申请号:CN202411991287
申请日期:2024-12-30
公开号:CN119919531A
公开日期:2025-05-02
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种轮廓点处理方法、设备、介质及产品,应用于光刻建模技术领域。本方法首先提取光刻胶图形的第一点序列,然后滤除第一点序列中的异常点,得到第二点序列;最后滤除第二点序列中的冗余点,得到第三点序列。在本实现方式中,对第一点序列进行两步滤除,第一步通过第一阈值滤除掉异常的轮廓点,从而保证剩余轮廓点的准确性,进而能够得到准确性更高的光刻模型。第二步再通过第二阈值滤除掉冗余的轮廓点,从而降低数据量,进而保证了建模速度。本方案具体利用第一点对和第二点对与各中间点的位置关系,滤除了异常点和冗余点,不仅降低了数据量,而且保证了数据的准确性,从而提高了建模的速度和准确性。
技术关键词
光刻胶图形 轮廓 序列 计算机程序指令 扫描电镜 异常点 直线 冗余 计算机程序产品 图片 光刻模型 可读存储介质 建模技术 处理器 电子设备 算法 速度
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