投影光学系统

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投影光学系统
申请号:CN202421634202
申请日期:2024-07-10
公开号:CN222965564U
公开日期:2025-06-10
类型:实用新型专利
摘要
本实用新型公开了一种投影光学系统,涉及投影光学设备技术领域,所述投影光学系统包括沿光轴方向依次设置的反射镜、活动透镜组、固定透镜组以及发光芯片,所述反射镜用以靠近投影面设置,所述活动透镜组沿光轴的延伸方向呈可活动设置,所述反射镜的光焦度满足0.08≤|φ300|≤0.011,所述活动透镜组的光焦度满足0.005≤|φ200|≤0.01,所述固定组件的光焦度满足0.04≤|φ100|≤0.05。如此设置,能够通过对系统光焦度的合理分配,极大的减小镜头的体积,确保所述投影光学系统在不影响自身分辨率的前提下,实现小型化。
技术关键词
投影光学系统 透镜组 发光芯片 反射镜 投影光学设备 玻璃非球面透镜 保护玻璃 投影面 振镜 分辨率 棱镜 间距 塑胶 镜头
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