一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备

本实用新型公开了一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备，包括：机械臂、推拉式挡板、样品台、靶材挡板、靶材以及白光干涉仪镜头，所述机械臂的伸展和折叠端安装有白光干涉仪镜头，且推拉式挡板与样品台进行连接。本实用新型通过增加白光干涉装置，避免设备工艺腔室破真空取样，通过样品台上推拉式挡板，可在样品溅射过程中制造台阶，节省了样品光刻显影制造样品台阶的工序，以及破真空的操作，白光干涉仪采用无接触式测量模式，可通过机械臂改变白光干涉仪镜头位置，找到测试的台阶，避免直接接触损坏样品本身，且样品一直处于真空状态，保证样品免受污染，明显提高镀膜工艺研发与工艺复测的效率。