清洁基站及清洁系统

本实用新型涉及一种清洁基站及清洁系统，清洁基站包括：壳体组件，壳体组件包括机体和盖体，机体设有清洗腔和连通清洗腔的开口，盖体活动设置在机体上并相对机体至少具有打开位置和关闭位置，盖体处于打开位置时打开开口以露出清洗腔，盖体处于关闭位置时关闭开口；清洗组件，清洗组件活动设置于清洗腔中；控制开关，控制开关包括触发件及开关件，触发件与开关件中分别设置在盖体和机体上，触发件被配置为盖体处于关闭位置时能够触发开关件以允许清洗组件启动。本申请的清洁基站，当盖体关闭开口并盖合到位时，触发件能同步触发开关件使得清洗组件能被启动，而当盖体打开时触发件离开触发区域，从而开关件关闭使得清洗组件工作电路中断无法启动。