一种化学机械抛光设备

本申请提供一种化学机械抛光设备，该设备包括研磨垫、第一管路、以及位于第一管路内的第二管路；第二管路用于向研磨垫输运至少一种流体；第一管路的第一出口靠近研磨垫，第二管路的第二出口靠近研磨垫；第一出口距离研磨垫的第一高度，小于第二出口距离研磨垫的第二高度。总之，通过在第二管路的外面设置包围的第一管路，且第一高度低，第二高度高，从而使得在第二出口向研磨垫喷射流体以清洗研磨垫时，流体能够在第一管路的第一出口的内侧壁上进行多次反射，从而使得流体能够以更多的角度喷射至研磨垫上，流体能够更发散的喷射至沟槽内部，从而增强对研磨垫的清洗效果。