用于碳化硅外延炉的连续生长装置

本实用新型公开了一种用于碳化硅外延炉的连续生长装置，包括：传输腔室；衬底片暂存箱，设置在传输腔室的第一侧；衬底片装配腔，设置在衬底片暂存箱与传输腔室之间；第一分离台，设置在衬底片装配腔中；承载环，适于承载衬底片且设置在第一分离台上，用于实现衬底片与承载环的拼接和分离；外延片暂存箱，设置在传输腔室的第二侧；外延片冷却腔，设置在外延片暂存箱与传输腔室之间；第二分离台，设置在外延片冷却腔中，用于实现外延片与承载环的分离；机械臂，设置在传输腔室内；反应腔室，设置在传输腔室的第三侧。本实用新型可一次性导入多片晶片并连续生长提高了生产效率，晶片放置及传递全机械化减少了人工的干扰，提升产品良率并降低生产成本。