摘要
本发明涉及半导体器件技术领域,尤其是涉及一种LED量子阱的外延结构及其生长方法。包括有源层,有源层由多个单元结构周期性堆叠组成,每一单元结构包括依次生长的量子阱层、盖层和量子垒层,其中:量子阱层包括交替生长的铟镓氮层和处理层形成的超晶格结构。本发明的铟镓氮生长时间短,单层厚度为传统铟镓氮厚度的5%~15%,大幅减少了铟镓氮受到的压应力,提升了量子阱的晶体质量。并且,在短时间的铟镓氮生长后保持氨气和铟进行处理,可以减少氮空位缺陷,同时还能减少铟镓氮中铟的分解,减少了量子阱中的缺陷。本发明明显提升量子阱的晶体质量,显著提高了LED在小电流密度下的发光效率。
技术关键词
外延生长方法
外延结构
量子阱层
氨气
氮化镓层
三乙基
LED芯片
半导体器件技术
周期性
流量比
晶体
三甲基
短时间
单层
氮气
应力
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