生成半导体图案的方法以及计算装置

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生成半导体图案的方法以及计算装置
申请号:CN202510003312
申请日期:2025-01-02
公开号:CN120257923A
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
提供了一种生成半导体图案的方法以及计算装置。所述生成半导体图案的方法包括:基于第一组恢复处理,通过执行生成式模型的恢复操作的第一序列来生成第一图像,生成式模型最初被提供输入图像,其中,生成式模型是具有多个恢复操作的基于电路图案的生成式模型;基于第一组恢复处理,通过从第一图像继续并且执行生成式模型的恢复操作的第二序列来生成第二图像;以及根据确定的第一图像与第二图像之间的相似度,通过从第二图像继续执行生成式模型的多个恢复操作来生成最终半导体图案,所述多个恢复操作包括基于与第一组恢复处理不同的第二组恢复处理的生成式模型的恢复操作的第三序列。
技术关键词
半导体图案 图像 生成半导体 序列 随机噪声 变量 处理器 存储器 语义特征 电路 纹理 比率 颜色 定义
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