一种压力检测方法及半导体工艺设备

本发明提供了一种压力检测方法及半导体工艺设备，该压力检测方法包括：获取当前进行压力检测的第一目标传感器的第一压力检测值，判断第一压力检测值是否大于等于第一目标传感器的融合起点且小于第一目标传感器的融合终点；当第一压力检测值大于等于第一目标传感器的融合起点且小于第一目标传感器的融合终点时，获取第二目标传感器的第二压力检测值；对第一压力检测值和第二压力检测值进行融合计算，得到最终压力检测值。本发明可以避免由小量程压力传感器切换至大量程压力传感器检测压力时，出现压力检测值突变问题，提升了压力检测精度，保证了压力控制过程的稳定性，避免由于压力波动影响工艺结果。