基于深度强化学习的半导体制造Q-time控制方法

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基于深度强化学习的半导体制造Q-time控制方法
申请号:CN202510030206
申请日期:2025-01-08
公开号:CN119443732B
公开日期:2025-04-18
类型:发明专利
摘要
本发明提供基于深度强化学习的半导体制造Q‑time控制方法,涉及半导体技术领域,包括获取工艺参数、设备状态、工序间等待时间和批次信息,输入到基于双重深度神经网络的深度强化学习模型中,计算Q‑time违规风险度,并选择调度动作;该模型采用包含Q‑time违规惩罚、生产效率奖励、设备利用率奖励和批次平衡奖励的综合奖励函数进行训练;最后,多目标优化决策模块根据实时监控数据和选择的调度动作,综合考虑产能最大化和Q‑time违规最小化生成调度指令,动态调整工序安排。
技术关键词
深度强化学习模型 深度神经网络 设备状态信息 风险 半导体 设备运行状态 产能 加权损失函数 时序特征 制造执行系统 设备状态数据 参数 决策 计算机程序指令 样本 估计误差 动态
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