微纳米加工工艺及方法及产品及光刻机

本发明公开了微纳米加工工艺及方法及产品及光刻机，涉及光学技术领域，主要在所需成型面的反面蚀刻出图案或线条或符号或花纹或电路图或光栅图或光路图，又或者是用蚀刻出图案或线条或符号或花纹或电路图或光栅图或光路图的镜面的反面的反面即加工后的镜面的反光去进行蚀刻或转印或压印。本发明舍去了传统制造芯片或光波导片或掩膜片繁琐的制造流程，通过在反面蚀刻图案得到正面的图案的工艺方法，简化制造流程，降低了制造成本。