基于矢量光场调控的单目深度成像设备设计方法及装置

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基于矢量光场调控的单目深度成像设备设计方法及装置
申请号:CN202510046977
申请日期:2025-01-10
公开号:CN119903750B
公开日期:2025-09-05
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种基于矢量光场调控的单目深度成像设备设计方法及装置。该方法包括:获取包含自然场景强度图和真实深度图的数据集并划分为训练集和测试集;对液晶空间光调制器中灰度值和琼斯矩阵之间的映射关系进行校准;构建可微分成像模型,计算矢量调控效应和矢量光场及二维线性偏振测量值;构建深度重建神经网络以重建深度图;将该模型和网络联立为端到端训练框架以联合优化;将测试集输入到优化的模型和网络中,根据输出的深度图和对应真实深度图的精度误差评估设备的单目深度成像性能。本发明利用调制器的偏振依赖特性对光场的矢量性质(偏振分布)进行调控,扩展了光学调控的自由度,实现高通量的深度信息编码,从而显著提升深度成像性能。
技术关键词
液晶空间光调制器 深度成像 矢量光场调控 设备设计方法 深度图 自然场景 神经网络参数 穆勒矩阵 深度学习卷积神经网络 线性 干涉仪 检测设备 偏振依赖特性 校准 效应 偏振传感器 框架
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