一种阴阳双面铜高精密一次腐蚀方法

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一种阴阳双面铜高精密一次腐蚀方法
申请号:CN202510056843
申请日期:2025-01-14
公开号:CN119876953A
公开日期:2025-04-25
类型:发明专利
摘要
本发明涉及电感制造技术领域,且公开了一种阴阳双面铜高精密一次腐蚀方法,包括如下步骤:步骤一、采用高精度传感器实时监测铜的厚度,调整喷淋压力及蚀刻液流量,确保阴阳两面腐蚀均匀,提高产品精度及合格率;同时,系统将自动记录各项参数,为后续生产提供数据支持,优化生产流程;步骤二、通过精准的线宽补偿算法,对阴阳两面铜板的线宽进行动态调整,确保在腐蚀过程中,铜板线宽的精度控制在一个合理的范围内,进一步减小线宽偏差,提升线路的平坦度和直线度。本发明通过精确控制腐蚀时间和温度,以及精准的线宽补偿算法,实现了对阴阳双面铜层厚度和线宽的精确调控,有效解决了现有技术中蚀刻难度大、线宽不一致的问题。
技术关键词
双面 优化生产流程 高精度传感器 补偿算法 智能视觉检测系统 精确控制腐蚀 铜板 蚀刻液 光学检测系统 图像分析技术 深度学习算法 直线度 参数 偏差 线路 动态 瑕疵 铜片
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