一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质

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一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质
申请号:CN202510073366
申请日期:2025-01-17
公开号:CN119494317B
公开日期:2025-03-28
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种SRAF放置效果评估方法、装置、设备及介质,涉及版图修正技术领域,包括:获取用户编写的SRAF放置规则文件,并对SRAF放置规则文件进行解析,以识别SRAF图形在集成电路版图中的位置信息、种类信息、数量信息和优先级信息,以得到SRAF特征信息;利用预设评估规则对SRAF特征信息分别进行效果评估,以得到各信息的效果评估结果;根据效果评估结果输出SRAF放置规则文件当前存在的缺陷问题,并提示用户进行SRAF图形的设计调整。缩短了整个评估周期,能更快速地为后续的SRAF图形设计调整提供依据,有效加快集成电路工艺开发验证的速度。
技术关键词
集成电路版图 评估装置 集成电路工艺 坐标系 修正技术 存储计算机程序 标签 核心 芯片 信号 可读存储介质 报告 处理器 电子设备 模块 存储器
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