综合自注意力和自相关双重机制的电离层TEC预测模型

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综合自注意力和自相关双重机制的电离层TEC预测模型
申请号:CN202510073554
申请日期:2025-01-17
公开号:CN119513819B
公开日期:2025-06-17
类型:发明专利
摘要
本发明提供一个综合自注意力和自相关双重机制的电离层TEC预测模型,属于电离层延迟预测技术领域,所述模型包括:趋势预测模块、相关性分析模块和序列融合模块;其中,趋势预测模块借助自相关运算机制,预测电离层TEC序列和空间环境参数各自的整体变化趋势;相关性分析模块利用自注意力机制,分析电离层TEC序列、空间环境参数和经纬度位置之间的相互联系;序列融合模块则利用相关性分析模块所得的相关性信息,对电离层TEC序列的整体趋势执行进一步地整合和优化,最终得到融合空间环境和经纬度位置信息的电离层TEC预测结果。本发明充分地利用了空间环境数据和经纬度位置信息,极大地提升了模型预测的准确率。
技术关键词
分析模块 序列 指数 Softmax函数 前馈神经网络 数据 掩码矩阵 注意力机制 时序 地磁 注意力方法 周期 线性 分辨率 站点 格网
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