一种多片晶圆同时进行离子注入工艺的方法

本发明公开一种多片晶圆同时进行离子注入工艺的方法，其属于半导体制造技术领域，其中扫描机器人上排布有两个以上的靶盘；多片晶圆同时进行离子注入工艺的方法包括：初始状态为扫描机器人上的多个靶盘均为平放且空载；然后晶圆被传输并分别放置在靶盘上，使每个靶盘上均放置有一片晶圆；扫描机器人控制靶盘固持晶圆，然后进行翻转，使多个晶圆均竖起至工艺所需角度；对晶圆进行离子注入的扫描过程；离子束的扫描面积能够完整覆盖位于扫描机器人上的多个晶圆；完成工艺所需的离子注入后，扫描机器人回到初始状态的平放状态，等待其上的晶圆被取下。本发明能够同时固持多片晶圆进行注入，可缩短平均每片晶圆的处理时间；例如可放四片晶圆同时注入，从而大幅度提高产能。