具有用于均匀网格金属栅极和沟槽接触器切割的外延小块的集成电路结构

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具有用于均匀网格金属栅极和沟槽接触器切割的外延小块的集成电路结构
申请号:CN202510231510
申请日期:2025-02-28
公开号:CN120730821A
公开日期:2025-09-30
类型:发明专利
摘要
描述了具有用于均匀网格金属栅极和沟槽接触器切割的外延小块的集成电路结构。结构包括:水平纳米线的垂直堆,纳米线中的个体纳米线在纳米线的末端具有对应外延源极或漏极结构,沿着水平纳米线的垂直堆,外延源极或漏极结构彼此不连续。栅极电极位于水平纳米线的垂直堆之上。导电沟槽接触器与栅极电极相邻,导电沟槽接触器沿垂直方向包围外延源极或漏极结构中的个体外延源极或漏极结构。电介质侧壁分隔器位于栅极电极和导电沟槽接触器之间。电介质切割塞结构延伸通过栅极电极,通过电介质侧壁分隔器,并且通过导电沟槽接触器。
技术关键词
导电沟槽 栅极电极 塞结构 纳米线 集成电路结构 接触器 分隔器 外延 封装集成电路管芯 金属栅极 通信芯片 数字信号处理器 照相机 网格 显示器 存储器 电池
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