摘要
本发明属于半导体封装技术领域,特别涉及一种芯片三维封装方法。包括:步骤S1:制备12寸硅圆片;步骤S2:制备第一N层金属互连线;步骤S3:在第一N层金属互连线进行晶圆级临时键合;步骤S4:通过晶圆级减薄设备对硅圆片硅背进行减薄;步骤S5:进行5μm厚度铝键合指工艺开发;步骤S6:形成晶圆级多层再布线硅基板;步骤S7:对晶圆级多层再布线硅基板进行划片,形成定制化尺寸的芯粒集成基板;步骤S8:制备形成芯粒集成微模组;步骤S9:重构制备12寸晶圆;步骤S10:利用晶圆级树脂减薄设备对树脂面进行减薄;本发明提高了芯粒集成的密度,大幅度缩短了每个功能芯粒之间的金属互连,减小了发热、功耗、与延迟。
技术关键词
三维封装方法
金属互连线
聚酰亚胺钝化层
金属电镀设备
旋涂设备
芯片
塑封模具
金属化
刻蚀设备
金属电镀工艺
布线
盲孔
解键合设备
基板
半导体封装技术
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