一种衬底集成、自组装、自对准微透镜组的制备方法

本发明涉及一种衬底集成、自组装、自对准微透镜组的制备方法，属于光芯片的微纳加工技术领域。所述方法，在完成正面外延结构并减薄抛光后，在晶圆背面进行二次外延并制作种子层，通过S‑K生长法依次生长一层浸润层和一层透镜层，最终在晶圆背面交替生长N个浸润层和N个透镜层，形成外延结构；将形成的外延结构进行自上而下刻蚀，直至刻蚀深度覆盖所有浸润层，形成刻蚀窗口；腐蚀形成的刻蚀窗口内及周围的浸润层，只留下透镜层，并在之间填充透明的材料进行加固。本发明基于S‑K生长，使得微透镜组的实际制备在外延生长阶段就一步到位，省去生产流转过程中多各环节积累的误差、污染等不利因素，精度和良率得到充分保证。