一种n型SiC耐高温欧姆接触电极结构的制备方法

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一种n型SiC耐高温欧姆接触电极结构的制备方法
申请号:CN202510293028
申请日期:2025-03-13
公开号:CN119797274B
公开日期:2025-07-15
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种n型SiC耐高温欧姆接触电极结构的制备方法,包括以下步骤:对碳化硅结构进行清洗,其中,碳化硅结构包括层叠设置的碳化硅衬底、缓冲层以及外延层;对完成清洗的碳化硅结构进行氧化,形成位于所述外延层之上的氧化硅层;基于湿法腐蚀对氧化硅层进行去除,并在完成对氧化硅层的去除后对外延层进行氢等离子体处理;对外延层远离缓冲层的一侧进行图案化处理,形成位于外延层之上的传输线模型;对传输线模型进行金属沉积,形成位于传输线模型之上的金属层,其中,金属层包括层叠设置的钛金属层、碳化钛金属层以及铂金属层;对金属层进行退火操作,以形成欧姆接触电极结构。本发明至少提高了化学及机械稳定性。
技术关键词
传输线模型 欧姆接触电极结构 碳化硅结构 金属沉积 碳化钛 外延 磁控溅射工艺 轮廓 碳化硅衬底 氧化硅 光刻胶层 图像采集单元 层叠 掩膜 缓冲层 实体 数值
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