用于半导体微结构染色的试剂、染色方法及应用

本发明公开了一种用于半导体微结构染色的试剂、染色方法及应用，其中试剂，由酸性混合液和硫酸铜溶液混合得到，其中：酸性混合液为如下任一：第一酸液中氢氟酸、硝酸、醋酸的浓度比例为，以重量份数计：取40％浓度氢氟酸1‑2份，65％‑68％浓度硝酸1‑2份,99.5％浓度醋酸20‑40份；或第二酸液中氢氟酸、硝酸、醋酸的浓度比例为，以重量份数计：取40％浓度氢氟酸0.1‑0.2份，65％‑68％浓度硝酸0.1‑0.2份,99.5％浓度醋酸20‑40份；硫酸铜溶液：取5‑10gCuSO4·5H2O固体置于40‑50mL水中，加热至40～50度，硫酸铜完全溶解得到硫酸铜原液，取1‑2mL硫酸铜原液、5‑10mL去离子水混合均匀备用。本发明方案组成简单，成本低廉，实现了不同工艺类型芯片的快速高效染色，并有利于高质量识别芯片的掺杂微结构。