一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法

本发明公开了一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法，建立高阶的多变形相互作用网络以捕获掩膜上的全局光学信息；通过在掩膜上多边形的拐角处建立光学直径范围内的相互作用图，以捕获线段间局部的光学邻近交互；通过建立边缘放置误差程度的序列信息，可以捕获多边形轮廓的整体变化趋势，包括偏差尺度和方向；以分割线段为基本单元，保证了掩膜的可制造性，并且提高了掩膜优化过程的时间效率；从而保证了可制造性和时效性。