一种DNA示踪剂运移预测及场地流场刻画方法

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一种DNA示踪剂运移预测及场地流场刻画方法
申请号:CN202510327108
申请日期:2025-03-19
公开号:CN119849380B
公开日期:2025-06-17
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种DNA示踪剂运移预测及场地流场刻画方法,属环境岩土领域。该方法通过使用拉普拉斯变换、傅里叶变换和数值反演获得DNA示踪剂在快区和慢区中浓度的表达式。在此基础上,根据地层揭示的水文地质条件和现场示踪实验注入井的示踪剂浓度监测结果确定示踪剂分子扩散系数、含水层厚度、弥散度和示踪剂注入衰减速率等模型必要参数。采用遗传算法耦合提出的解析解,以监测井示踪剂产出曲线与预测结果的拟合度为控制量,确定场地土壤快区和慢区的平均线性流速和孔隙率,实现场地异质性土壤中的流场的精细刻画。该方法结合了解析模型、遗传算法和现场示踪剂实验,所得到预测结果准确客观,且计算便捷无需依赖软件,适合工程应用。
技术关键词
示踪剂 无量纲参数 刻画方法 拉普拉斯 分子扩散系数 遗传算法 表达式 曲线误差 场地土壤 现场工况 背景值 水文地质条件 环境岩土 流速 线性 反演算法 地下水 动力
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